IBM разработала метод производства 22 нм чипов

IBM анонсировала систему производства, которая может делать 22 нм чипы и должна выйти только в 2011 году. Современные 45 нм чипы используют метод производства, который не может быть масштабирован до 22 нм. По этому IBM не стала использовать традиционный подход, а использовала математические модели и вычисления для разработки нового метода.

Новый технический процесс называется IBM Computation Scaling (CS) и позволяет, как говорит сама компания "производить сложные, мощные и энергоэффективные полупроводники на 22 нм и даже менее техническом процессе". Согласно представителю IBM Semiconductor Research and Development Center VP – Гарри Паттону (Gary Patton): "Традиционный метод производства чипа зависит от оптической разрешающей способности, подход IBM CS фокусируется на математических вычислениях, проводимых в комплексном программном обеспечении. Также этот метод делает разработку чипов максимально прозрачной и гибкой для разработчиков."

Также Гарри Паттон сообщил, что IBM разработала полную производственную линию, позволяющую разработчикам проектировать процессоры, модули памяти, DSP и любые другие электрические чипы. Которая затем с помощью программного обеспечения оптимизирует все математические модели специально под 22 нм технический процесс. Возможно именно под частью этого IBM имеет ввиду использование технологии High-K Metal Gate, которую не использует ни один другой разработчик компьютерных чипов.

Решение IBM CS включает в себя несколько производственных циклов и производственных техник: техника увеличения разрешения, оптимизация исходной маски, виртуальное производство кремниевых чипов, с использованием TCAD, и предварительное моделирование процесса производства. А также: генерация правил дизайна и соответствующих моделей, дизайнерские инструменты, комплексная иллюстрация технического процесса, контроль варьирования величин и производство заданной маски.